處理惡臭氣體常用的除臭設備！

 

處理惡臭氣體的常用方法有活性炭吸附、等離子體、紫外線除臭設備等。以下是一些***內外***常見的惡臭氣體處理除臭設備:

 

等離子體法利用高壓電極發射離子和電子破壞惡臭分子結構的原理，轟擊廢氣中的惡臭分子，從而裂解惡臭分子。低濃度惡臭氣體凈化效果明顯，正常運行條件下可達80%以上。它可以處理各種氣味的混合氣體，不受濕度影響，沒有二次污染，但耗電量***，需要除灰，運行維護成本高，高濃度易燃易爆氣體容易引起爆炸。

 

活性炭吸附除臭設備

 

活性炭吸附法利用活性炭內部孔隙結構發達、比表面積巨***的原理，吸附通過活性炭池的惡臭氣體分子。活性炭吸附具有選擇性，非極性物質比極性物質更容易被吸附。在同一系列物質中，沸點越高越容易被吸附，壓力越高，溫度越低，濃度越高，吸附容量越***。相反，減壓升溫有利于氣體的解吸。有機廢氣由風機提供動力時，以正壓或負壓進入活性炭吸附塔。由于活性炭的固體表面存在不平衡的、不飽和的分子吸引或化學強度，當固體表面與氣體接觸時，可以吸引氣體分子，使其集中并保持在固體表面，從而吸附污染物和氣味。廢氣經過活性炭吸附塔后，進入設備的除塵系統，凈化后的氣體在高空達標排放。尤其應廣泛應用于油漆廢氣、油墨廢氣、焊接廢氣、塑料廢氣的處理。

 

紫外線除臭設備

 

本產品采用***殊的高能、高臭氧紫外光束照射惡臭氣體和二氧化鈦進行光催化，催化裂解惡臭氣體如氮氣、三甲胺、硫化氫、甲基硫化物、甲硫醇、二甲基二硫、二硫化碳和苯乙烯、硫化物H2S、VOC、苯、甲苯和二甲苯的分子鏈結構，使有機或無機高分子惡臭化合物的分子鏈在高能紫外光束照射下降解轉化為CO2等低分子化合物。

 

二氧化鈦的光催化活性在很***程度上影響光催化反應速率，而二氧化鈦的光催化活性主要受二氧化鈦的晶型和粒徑的影響。銳鈦礦型二氧化鈦具有高催化活性。隨著粒徑的減小，電子和空穴簡單復合的幾率降低，光催化活性增加。此外，孔隙率、平均孔徑、顆粒表面狀態、純度等。對其光催化活性也有一定影響。為了提高光降解效率，對二氧化鈦光催化劑進行了改性，如制備納米二氧化鈦、制備二氧化鈦復合半導體、摻雜金屬離子、敏化染料等。二氧化鈦催化劑也可以通過各種先進的手段來制備，以提高光催化劑的活性。

 

空氣中的氧分子被高能臭氧紫外光束分解，產生游離氧，即活性氧。由于自由氧攜帶的正負電子不平衡，氧分子結合產生臭氧。UV+O2→O-+O*(活性氧)O+O2→O3(臭氧)。眾所周知，臭氧對有機物有很強的氧化作用，對惡臭氣體和其他刺激性氣味有立即去除作用。

 

利用高能紫外光束裂解惡臭氣體中細菌的分子鍵，破壞細菌的核酸(DNA)，然后利用臭氧進行氧化反應，從而完全達到除臭殺菌的目的。